意匠五庁（ID5）年次会合が開催　中国国家知識産権局から盧副局長が出席

10月23日から24日にかけて、五大特許庁による意匠分野の国際協力枠組み意匠五庁「ID5」の年次会合がオンラインと対面の併用形式で開催された。本年の会合は、米国特許商標庁（USPTO）が議長庁を務めた。

　会合には、中国国家知識産権局（CNIPA）からは盧鵬起副局長が出席した。開会にあたり、盧副局長は挨拶で、「意匠は各国経済の発展を促進するうえで重要な役割を果たしており、ID5協力メカニズムも、五庁の意匠制度の発展調和と国際的な意匠保護の潮流形成において極めて重要な意義を持つ」と述べたうえで、「今後も五庁が手を携えて、より豊かな協力成果を生み出すことを期待する」と表明した。

出所：国家知識産権局公式サイト

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