2月22日の国家知識産権局（CNIPA）定例記者会見で発表された情報によると、中国は引き続き特許審査及び商標登録期間の短縮に取り組む。年内に特許出願の審査期間を16ヶ月に短縮し、一般商標登録の期間を7カ月範囲内に維持させる。

　CNIPA弁公室の衡付広主任によると、特許審査に関して、同局は今年、非正常専利（特許、実用新案、意匠）出願行為に対する処理措置を引き続き強化し、審査基準を改善し、審査の質を絶えず向上させ、年内に特許の審査結果の正確率を93%以上に高めることを目指す。

　商標審査の面では、CNIPAは商標審査の審査・審判基準を引き続き見直し、全プロセスをカバーする品質監視管理システムを確立させ、審査の質の向上を推進する。年内に、商標異議案件の平均審査期間を10ヶ月に短縮する。

　知的財産権の法整備に関して、今年は専利法実施細則改正の完了、商標法とその実施条例の新たな改正、地理的表示（GI）関連法の制定、データ知的財産権保護制度の構築などを推し進めていく予定だという。

出所：国家知識産権網

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